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标题: Source mask optimization for extreme-ultraviolet lithography based on thick mask model and social learning particle swarm optimization algorithm
作者: ZhangZinan;李思坤;WangXiangzhao;ChengWei;QiYuejing
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: OPTICS EXPRESS
年: 2021
卷: 29
期: 4