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标题: Critical pattern selection method for full-chip source and mask optimization
作者: LiaoLufeng;李思坤;WangXiangzhao;ZhangLibin;GaoPengzheng;WeiYayi;ShiWeijie;廖陆峰
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: OPTICS EXPRESS
年: 2020
卷: 28
期: 14