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标题: High-order wavefront aberration measurement method for hyper-NA lithographic projection lens based on a binary target and rotated regression matrix
作者: ZhuBoer;李思坤;WangXiangzhao;MengZejiang;ZhangHeng;戴凤钊;唐锋;DuanLifeng
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: OPTICS COMMUNICATIONS
年: 2019
卷: 431
期: