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标题: Polarization simulation and analysis of residual birefringence in optical materials for a hyper-NA lithography illumination system
作者: ZhouRuyi;朱玲琳;ZhangChong;LiuTiecheng;ZengAijun;AvakawSergey;黄惠杰
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: APPLIED OPTICS
年: 2019
卷: 58
期: 20