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标题: Optimization of defect compensation for extreme ultraviolet lithography mask by covariance-matrix-adaption evolution strategy
作者: ZhangHeng;李思坤;WangXiangzhao;杨朝兴;ChengWei
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS
年: 2018
卷: 17
期: 4