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标题: High temperature water as a clean and etch of low-k and SiO2 films
作者: BarclayJoshuaD.;OkobiahOseoghaghare;邓路;SengphanlayaTina;DuJincheng;ReidyR.F.
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: MICROELECTRONIC ENGINEERING
年: 2018
卷: 196
期: