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标题: CrSb2Te thin film as a dry resist and its etching mechanism for lithography application
作者: WeiTao;LiuBo;LiWanfei;LingYun;HuJing;LiuQianqian;ChengMiao;魏劲松
论文类型: 期刊论文
期刊/会议名称: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS
年: 2021
卷: 266
期: