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标题: Selective dry etching of silicon with heat-mode resist GeSb for the preparation of metasurfaces
作者: Zeng, Xu; Zhang, Kui; Wei, Jingsong; Chi, Jiahao; Dai, Haolin; Wang, Yang
论文类型:
期刊/会议名称: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
年: 2024
卷: 184
期: