中国科学院上海光学精密机械研究所(简称:上海光机所)成立于1964年5月,是我国建立最早、规模最大的激光科学技术专业研究所。发展至今,已形成以探索现代光学重大基础及应用基础前沿、发展大型激光工程技术并开拓激光与光电子高技术应用为重点的综合性研究所。研究...
中国科学院上海光学精密机械研究所(简称:上海光机所)是我国建立最早、规模最大的激光专业研究所,成立于1964年,现已发展成为以探索现代光学重大基础及应用基础前沿研究、发展大型激光工程技术并开拓激光与光电子高技术应用为重点的综合性研究所。重...
上海光机所国际合作工作始终围绕上海光机所的主责主业,以服务重大任务和国家需求为牵引,强化目标导向,注重内外集成协同,加强重大国际合作任务的谋划。坚持“战略布局,需求牵引,技术引领,合作共赢”的原则,基于科技部授予的国家国际科技合作基地及本单位学科技术优势,围绕“一带一路”国家倡议,深化拓展与发达国家实质性合作,夯实海外机构建设,积极培育和发起国际大科学计划,加强国际组织任职推荐,组织相关国际会议等,汇聚各类国际人才,建立以“平台-人才-项目-组织”合作模式,融入全球创新合作网络,助力上海光机所成为国际一流科研机构。上海光机所国际合作一直得到所领导的高度重视,历届所长亲自主管国际合作。1972年,上海光机所接待诺贝尔奖的美籍华裔科学家杨振宁,标志着我所第一次对外开放。2007年,被科技部首批授予“科技部国际科技合作基地”。2016年,科技部首次对全国2006-2008年间认定的113家国际合作基地进行了评估,上海光机所获评“优秀”。2021年,科技部首次对全国719家国际合作基地进行了评估,上海光机所持续获评“ 优秀”。王岐山副主席到上海光机所视察时,对上海光机所近几年取得的系列科技成果,以及重大国际合作项目“中以高功...
作为我国建立最早、规模最大的激光科学技术专业研究所,和首批上海市科普教育基地之一,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称:上海光机所)在致力于科技创新的同时,十分重视科普工作。多年来,上海光机所借助科研院所强大的科普资源优势,围绕光学与激光科学技术,积极开展公众开放日、科普讲座、科技课堂、科普作品创...
超强激光科学卓越创新简报
(第一百四十八期)
2020年11月6日
上海光机所提出一种基于CMA-ES与新型光源表征方法的SMO技术
近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室在计算光刻技术研究方面取得进展,提出了一种基于协方差矩阵自适应进化策略(Covariance matrix adaptation evolution strategy, CMA-ES)与新型光源表征方法的光源掩模优化技术(Source mask optimization, SMO)。仿真结果表明该技术的优化性能与收敛效率优于国际同类技术。相关研究成果已发表在Optics Express。
光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一,光刻分辨率决定了集成电路的特征尺寸。随着集成电路图形的特征尺寸不断减小,光刻系统的衍射受限属性导致明显的光学邻近效应,降低了光刻成像质量。在光刻机软硬件不变的情况下,采用数学模型和软件算法对照明模式、掩模图形与工艺参数等进行优化,可有效提高光刻分辨率/增大工艺窗口,此类技术即计算光刻技术(Computational Lithography),被认为是二十一世纪推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力。
SMO通过同时优化照明光源和掩模图形提高成像质量,是实现28nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术之一。中国科学院上海光机所研究团队提出了一种基于CMA-ES与新型光源表征方法的SMO技术。利用CMA-ES优化光源和掩模,采用秩1更新和秩μ更新自适应调整表征解向量搜索空间分布的协方差矩阵,使得较优解向量具有更大的概率在后代中再次产生,并通过控制全局搜索步长调整解向量搜索空间的范围。用一组预设数目的位置可调的单位强度理想光源点表征光源,通过优化这些光源点的位置实现光源优化。利用不同光源表征方式和多种掩模图形进行验证,仿真结果表明该SMO技术的优化性能与收敛效率优于国际上常见的基于启发式算法的SMO技术。
相关研究得到了国家02科技重大专项和上海市自然科学基金项目的支持。
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