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6月12日学术报告:面向0.55高数值孔径光刻技术的EUV光刻胶材料

来源: 发布时间:2024-06-11【字体:

报告人:罗锋 教授

会议时间612上午9:00-10:30

会议地点:清河路390号 溢智厅

报告内容

目前生产用 EUV 光刻胶是基于聚合物的化学放大光刻胶 (CAR)。在 32 nm 间距以下,使用0.33 NA 双重曝光会提高工艺复杂性、增加成本,引入设计规则限制。0.55 NA高数值孔径EUV光刻所需光刻胶厚度为20nm,将扩大线边粗糙度和缺陷,给良率和通量带来了限制与挑战。金属氧化物光刻胶(MOR)是一个高NA新平台。报告系统介绍了分子团簇MOR材料的合成方法学以及其在极紫外光刻与电子束曝光条件下的评估情况。

报告人简介

罗锋,南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院双聘讲席教授,先后入选欧盟玛丽居里学者、西班牙杰出青年基金、西班牙 I3 杰出教授、第十五批国家重大人才项目等。目前担任深圳综合粒子研究院科创委委员,上海光源用户委员会委员,中国感光学会光刻材料与技术专业委员会委员。研究方向包括极紫外光刻的光刻胶合成与评估、极紫外光刻(曝光/检测)。


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