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12月29日学术报告：氮化硅集成光芯片的频率梳及其应用

来源： 发布时间：2020-12-28【字体：大 中 小】

　　报告题目：氮化硅集成光芯片的频率梳及其应用

　　报告人：刘骏秋，瑞士洛桑联邦理工学院（EPFL）

　　报告时间：2020年12月29日，9:30-10:30

　　报告地点：108会议室

　　摘要：自20世纪末，我们见证了光学频率梳的飞速发展。如今，光学频率梳在光原子钟，光谱学和微波生成扮演着不可取代的作用。频率梳生成的主要机制还是基于锁模激光器和光子晶体光纤的超连续产生，并催生商业化的频率梳仪器平台。然而，这些商业的频率梳仪器平台整体系统十分精密复杂，体积庞大，而且价格极其昂贵。因此，研究新型小型化频率梳已成为现在光学领域一个热点方向。近年来，在超高品质因子的光学微谐振腔里实现频率梳正成为一项可行方案。光学微腔具有体积小、能耗低、可控度高等特点。特别是，通过利用半导体微纳加工技术，光学微腔可以在集成材料中实现，例如硅和氮化硅。基于芯片集成微腔的光频率梳仅芯片大小，生产成本低，适用于工业化大量成产。毫无疑问，氮化硅芯片集成频率梳正在成为一项关键技术，有望在未来对数个领域产生重要影响。本报告将介绍近年来氮化硅芯片频率梳的制备、集成和应用等几个方面的重要进展。

　　主讲人： 刘骏秋，2020年7月获瑞士洛桑联邦理工学院（EPFL）博士学位，2016年获德国埃尔朗根-纽伦堡大学硕士学位（最高毕业荣誉），2012年获中国科学技术大学（少年班）学士学位。他的主要研究方向为非线性光学，芯片集成光学，微波光子学，和微机电系统等。他已发表超过30篇工作，其中包括3篇Nature，3篇Nature Photonics / Physics，5篇Nature Communications，4篇Optica，2篇PRL / PRX等。

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