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4月25日学术报告通知

来源： 发布时间：2013-04-24【字体：大 中 小】

特聘研究员Andreas Erdmann学术报告

报告题目: Innovations in Lithography: A Personal View

报告人: Andreas Erdmann

报告人单位：德国弗劳恩霍夫集成系统与元器件技术研究所（Fraunhofer IISB, Germany）

时间：2013年4月25日（周四）上午9：30

地点：溢智厅

摘要：The talk will present a personal view on the development of optical lithography for semiconductor fabrication and applications in future nanotechnology. In the past, optical projection lithography was pushed to features sizes smaller than 30nm. Several options for the further scaling, including multiple patterning, EUV lithography and directed self-assembly are discussed. The last part of the talk will address the required extension of lithography to address the third dimension.

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