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美国光学学会Applied Optics刊物“纳米光学应用”专辑出版

来源: 发布时间:2011-11-15【字体:

2011年11月,美国光学学会Applied Optics刊物隆重推出的光学领域研究热点——“纳米光学应用”专辑出版。该专辑由上海光机所周常河研究员,美国加州大学圣地哥分校Fainman教授,和加拿大Laval大学的Yunlong Sheng 教授共同担任编辑,收到了多个国家的稿件。经编辑组严格审稿,发表了包括美国哈佛大学在内的20余篇研究论文,反映了纳米光学应用领域最新研究成果。详情参见http://www.opticsinfobase.org/ao/issue.cfm。


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