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上海市国际科技合作基金项目“微电子刻蚀工艺加工新型光刻”通过验收

来源：科研管理处 发布时间：2007-09-14【字体：大 中 小】

2007年9月7日，上海市科委在集成电路设计中心，主持召开了上海市国际科技合作基金（AM基金）“微电子刻蚀工艺加工新型光栅”项目验收会。该项目是上海光机所第一次承担的AM基金项目。课题组负责人周常河研究员在会上作了项目工作报告，验收专家组听取了项目组汇报，并进行了认真讨论。

专家组对项目组采用石英玻璃研制出高性能偏振分光器，创造性的完成各项项目指标给予了高度评价。同时认为：

1. 项目利用高密度等离子体刻蚀设备，半导体光刻工艺技术和激光全息技术，加工出的微结构光栅，能够在1550纳米光通信波段以并行方式实现全波段的解复用，效率高于80％，具有串扰小，并行度高，波长分辨率高等优点。

2. 项目利用石英玻璃深刻蚀技术，在石英玻璃基底上加工出了优化深度具有偏振分光功能的光栅，具有使用寿命长，不易霉变，稳定可靠，热稳定性好等优点。

3. 项目组利用改进的深刻蚀石英技术，已为上海大学、上海交通大学等加工了一定量的特殊光栅，实际应用问题得到解决，具有很好的应用前景。

专家组一致通过该项目的验收。

 

（科研管理处供稿）

 

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