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《科学新闻》2002年第21期刊登我所王之江院士的文章

来源: 发布时间:2002-12-10【字体:

《科学新闻》2002年第21期刊登我所王之江院士的文章

  由中国科学院主办的《科学新闻》2002年第21期院士建议栏目刊登了我所王之江院士的文章,题目是“尽快开展极紫外光刻技术研究”。王院士认为:极紫外光刻技术(EUVL)是以波长为11-14nm的软X射线为曝光光源的微电子光刻技术。根据目前的光刻技术发展形势看,EUVL将是大批量生产特征尺寸为70nm及更细线宽集成电路的主流技术。因此,建议我国应尽快开展EUVL技术方面的研究:(1)EUVL光源研究;(2)全反射式离轴非球面缩倍投影光刻物镜研究;(3)高精度高轴非球面反射镜加工、检测技术研究;(4)极紫外多层高反射率光学薄膜制备技术研究。 (所办供稿)