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上海光机所知识创新工程工作简报

（第二七三期）

2011年4月28日 

上海光机所13.5nm软x射线反射镜获得67.8%的反射率

 

中科院强激光材料重点实验室近期在13.5nm 软x射线反射镜研制方面取得重要进展，技术性能指标达到国际先进水平。经合肥国家同步辐射实验室测试，反射镜S分量反射率最高值达到67.8%（34.4°入射）。

13.5nm软x射线多层膜反射元件与现代科学技术研究的前沿课题密切相关，在天文学、极紫外光刻、x射线激光以及同步辐射装置等方面都有重要应用。如同可见区高反射膜，软x射线反射膜也需要两种折射率差较大的材料配对，通过多层界面反射光的相干叠加增强反射率。现有可用材料均对软x射线存在吸收，使得高反射率反射镜的设计和制备存在很大难度。

中科院强激光材料重点实验室采用超光滑Si片做基底，并进行精细表面清洗处理，使用磁控溅射技术精确控制薄膜周期厚度及结构。在合肥国家同步辐射实验室的U26光谱辐射标准与计量实验线站进行的反射率测量结果显示：运用该技术方案制备的五个Mo/Si多层膜反射镜，在34.4°入射时反射率峰值平均值达到66.9%，接近理论的最高反射率73.7% (见下图)。该性能指标已经达到国际先进水平，最高值达67.8%，同时已具备了小批量提供性能稳定的高质量反射镜片的能力，将为我国在软x射线领域的相关研究与应用提供有力的技术保障。（中科院强激光材料实验室供稿）

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