为促进党建与科研的深度融合，6月12日，装备党支部在溢智厅举办第一期“科学新思”论坛。 “科学新思”论坛旨在为高端光电装备领域的科研人员搭建与科学家对话交流的平台，凝聚共识、创新思维、增进合作。南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院双聘讲席教授罗锋受邀作题为“面向0.55高数值孔径光刻技术的EUV光刻胶材料”的主题报告。本次论坛由党支部书记李思坤主持，全所科研人员、研究生约40余人参加了论坛。

罗锋教授分享了其团队近年来取得的研究工作进展和成果，深入浅出地介绍了分子团簇MOR材料的合成方法学以及其在极紫外光刻和电子束曝光条件下的评估情况。还介绍了其团队在光刻胶表征平台、EUV掩模缺陷检测、小型化同步辐射EUV光源、基于小型化光源的光刻技术研发平台、先进工艺等方面的研究进展。

交流互动环节，现场听众就EUV光刻胶材料目前的应用局限和未来的发展方向等问题与罗锋教授进行了深入交流与讨论。在谈到未来发展时，罗教授指出，随着5G、物联网、人工智能等技术的广泛应用，对半导体器件的性能要求也越来越高，因此，光刻胶材料的研究需要不断突破传统框架，寻求新的合成方法和优化方案。他预计，在不久的将来，将会有更多高性能、高稳定性的光刻胶材料被研发出来，为半导体产业带来新的革命性变革。

本次交流活动为与会者提供了一个与知名专家深入交流的机会，也为大家展示了EUV光刻胶材料、EUV检测光源、EUV掩模缺陷检测等领域的最新进展，指出了未来发展方向。本次活动充分彰显了党支部为装备部主责主业发展发挥的重要作用，促进了党建与科研深度融合，为加快抢占科技制高点提供了坚强的组织保障。