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高速旋转型无掩模激光直写光刻机研制
信息来源: 发布时间: 2019年05月06日 【 】 【打印】 【关闭

     

报告人:白震(微纳光电、直博五年级)导师:魏劲松研究员  

              

报告题目:高速旋转型无掩模激光直写光刻机研制    

    

报告时间:201958日下午13:50            

          

报告地点:溢智厅          

             

报告摘要:     

   研制了一种高速旋转型极坐标激光直写光刻系统,能够保持超高刻写速度的前提下,进行大面积任意图形的刻写,主要内容包括:设计了极坐标激光直写系统的光路结构,硬件结构和软件架构,设计了一套极坐标数据生成和传输系统,精密的离焦检测系统,自动跟踪聚焦系统,高速数据同步系统。本报告将介绍在极坐标激光直写光刻系统研制过程中所做的一些工作,同时结合自身科研经历,分享一些读博期间的感悟。  

 

个人学习经历:             

2010.09-2014.06 山东大学 学士学位  

2014.08-至今    中国科学院上海光学精密机械研究所 博士学位  

 

获奖情况:

  1. 2016年度  中国科学院大学优秀学生干部
  2. 2016年度  第三届上海市大学生先进材料创意大赛 三等奖
  3. 2017年度  中科院上海光机所优秀研究生奖学金 一等奖 
  4. 2018年度  中国科学院首届“率先杯”优胜项目 

 

代表性论文:  

1. Zhen Bai, Jingsong Wei*. Focusing error detection based on astigmatic method with a double cylindrical lens group [J].Optics & Laser Technology, 2018, 106: 145-151. 

2. Zhen Bai, Jingsong Wei*, Xin Liang, Kui Zhang, Tao Wei, Rui Wang . High-speed laser writing of arbitrary patterns in polar coordinate system[J].Review of Scientific Instruments, 2016, 87(12): 125118. 

 

联系方式:        

Email:yqyufeng@163.com 

 
 
 

     

     


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