极紫外（Extreme Ultraviolet，简称EUV）光刻机是量产7nm以下集成电路工艺节点的关键核心设备。相对于上一代光刻机，EUV光源是最新一代光刻机整机中最大的创新点和难点。从上个世纪末直至2019年，研发历时20年之久，集西方半导体设备加工全产业链的努力，EUV光刻光源才实现工业线上量产，使半导体行业进入EUV时代。本报告将带大家一起走进光刻机，特别是EUV光刻光源，通过对科学原理到工程实现的讲解，使听众全面理解EUV光刻光源，以及半导体行业的一些核心指标如量产的真实含义和难点所在，以助于广大同行更好的理解半导体设备行业实际需求和所需的努力方向。

Biography

丁程远，中国科学院上海光机所研究员，博士生导师。2014年博士毕业于美国科罗拉多大学博尔德分校超快EUV光源实验室（KM Group）即加入某公司，一直从事EUV光源系统研发与产业化发展研究。作为EUV光刻光源最早系统工程师之一，带领团队成功解决了EUV光刻光源量产的最大难题，即系统的污染物（debris）问题，是半导体进入芯片EUV时代的主要和直接贡献者之一。