10 月18日，由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、南京市浦口高新区和南京市浦口区科学技术局承办的第三届国际先进光刻技术研讨会在南京市成功举办。 

　　大会主席、集成电路产业技术创新联盟理事长、科技部原副部长曹健林，国家科技重大专项电子信息领域监督评估组组长、国家外国专家局原局长马俊如，大会副主席、中国科学院微电子研究所所长、国家02科技重大专项技术总师叶甜春等分别致辞。大会秘书长、中科院微电子研究所计算光刻研发中心主任韦亚一研究员主持开幕式。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共计400余名技术专家和学者参加了本届大会。 

　　　　我所王向朝研究员带领团队参加了会议并担任国际咨询委员会委员、大会session chair。上海光机所在本次会议上共发表5篇学术论文，其中论文“Wei Cheng, Sikun Li*, Xiangzhao Wang*, Zinan Zhang,Profile reconstruction method for multilayer defect in Extreme Ultraviolet Lithography, the 3^rd International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS2019),Nanjing China,17-18 Oct,2019”被评为大会唯一最佳论文，获Best Paper Award。 

　　国际先进光刻技术研讨会（www.iwaps.org）是国内首个高端光刻技术研讨会，已连续举办三届。本届大会延续了往届的高规格和高水准，已成为共享国内外先进光刻技术研发成果，促进我国集成电路制造技术研发与应用，开展合作与交流的高端峰会。报告内容总结等更多会议情况请参阅“光刻人的世界”微信公众号：https://mp.weixin.qq.com/s/35-U-HNUWz_q33-zokOXew以及会议官方网站.