12月17日下午，上海光机所第五期“清河之光”论坛在多功能厅举办。本次活动邀请到日本Gigaphoton公司的EUV开发部部长顾问Shinji Okazaki博士来所作学术报告。全所近200名职工和研究生听取了报告。讲座开始前，Shinji Okazaki博士被聘为上海光机所名誉教授，所党委书记邵建达研究员为其颁发了名誉教授证书。 

　　在本次论坛上，Shinji Okazaki博士作了题为“History, Current Status and Future Prospects of Lithography”的学术报告。报告主要介绍了光刻技术的发展历史、现存问题和相应的解决方案，并对下一代光刻技术进行了深入的探讨。报告指出193nm浸没式光刻技术与多图形技术相结合是当今的主流光刻技术。作为下一代的光刻技术，EUV光刻面临光源、掩模、光刻胶等方面的问题，电子束光刻、纳米压印和自组装技术也是很有竞争力的下一代的光刻技术。报告后，与会人员就EUV光刻技术的研究进展与前景等问题与Shinji Okazaki博士进行了深入的交流。会后，Shinji Okazaki博士分别参观了上海光机所强场激光物理国家重点实验室、信息光学与光电技术实验室以及高功率激光物理联合实验室。 

　　Shinji Okazaki博士1970年毕业于东京工业大学理学部电子工学科，之后进入日立中央研究所工作。1980年赴美国伦斯勒理工学院（Rensselaer Polytechnic Institute)访学一年。1994年获得东京工业大学工学博士学位。1995年进入日立半导体事业部，1998年转入日立设备开发中心，同年返回日立中央研究所，并调职至日本超先进电子技术联盟ASET（Association of Super-Advanced Electronics Technologies），担任EUV研究室室长，从事EUV光刻技术的研究。2002年就任ASET的EUV工艺技术研究部部长，2006年返回日立中央研究所。2008年从日立离职，进入Gigaphoton公司工作，并调职至日本极紫外光刻系统开发协会EUVA（Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association），现为Gigaphoton公司EUV开发部部长顾问。Shinji Okazaki博士为IEEE Fellow，SPIE Fellow，日本应用物理学会Fellow。（吴飞斌 供稿）