为满足我国IC装备零部件国产化要求，在上海市科学技术委员会的支持下，近期，上海光机所“光刻机定位双频激光干涉仪”、“硅片缺陷自动检测仪”与 “激光光刻用准分子激光系统部分关键技术”研究取得重要进展。
    “光刻机定位双频激光干涉仪”项目由程兆谷研究员、黄惠杰研究员课题组开展。通过3年的研究，取得6项专利，并在完成关键技术攻关和原理性实验工作的基础上，研制出双频激光干涉仪样机。验收专家认为“该项目研制成功将对高精度步进扫描投影光刻机硅片台和掩模台的定位检测具有重要意义。”双频激光干涉仪同时具有大范围、高分辨率、高精度、高速度和允许光源多通道复用等诸多优点，在先进制造领域获得广泛应用，是极大规模集成电路光刻机工件台和掩模台多自由度实时超精密测量所不可或缺的关键技术和核心部件。
    “硅片缺陷自动检测仪”的研究工作由程兆谷研究员、钱红斌研究员所在课题组开展。研制成功的“硅片缺陷自动检测仪”实验室样机，在倾斜入射激光扫描散射检测技术、高效率大数值孔径散射光收集和光电检测技术、提高探测灵敏度和获得高的信噪比关键技术等方面获得突破，取得6项专利技术。该检测设备具有非破坏性、高速度、高分辨率和高信噪比等特点，是目前半导体制造行业主流硅片缺陷实时检测和过程控制关键设备。验收专家组认为“该样机的研制成功，对于改变我国大规模集成电路专用检测设备长期依赖进口局面，研制和开发具有自主知识产权的国产化设备取得重要进展”。
    “激光光刻用准分子激光系统部分关键技术”研究由楼祺洪研究员所在课题组开展。他们在该项研究中共取得6项专利，在完成关键技术攻关和原理性实验的工作上，建立了用于准分子激光光束均匀性的测试平台；用标准具方法对准分子激光束的谱线进行了压缩，实现了8.6pm的谱线宽度；并研制了准分子激光用多种光束均匀器，单脉冲均匀性优于2％。该项目现已通过上海市科委组织的验收，它的完成将对光刻用准分子激光器的国产化具有重要意义。

（精密光电测控研究与发展中心、先进激光技术与应用系统实验室供稿）