微纳光电子功能材料实验室

高频磁控溅射设备

更新时间:2023-11-23 【打印】 【关闭
设备名称: 高频磁控溅射设备
设备型号  Z550S 设备编号  2009111 产 地  德国
制造商名称  德国LEYBOL公司
经销商  LEYBOL公司
购置时间  1989/11/22 启用日期  1991/2/21 仪器金额  2724001.05
接收时的状态及验收记录  完好,验收合格
仪器描述  本设备为带换样室立式结构的超高真空磁控溅射镀膜
仪器主要配件  直流、射频电源,控制柜等
仪器主要功能  本底真空可达≦1×10-4Pa,可进行大面积沉积镀膜。
分析项目说明  靶材要求:溅射靶材直径为200mm,为钎焊放置。
联系方式 张奎:021-69918562
设备图片