微纳光电子功能材料实验室
| 设备名称:多靶磁控溅射仪 | ||||||
| 设备型号 | DCJ－Ⅲ | 设备编号 | 2001－010 | 产 地 | 沈阳 | |
| 制造商名称 | 中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | |||||
| 经销商 | 中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | |||||
| 购置时间 | 2000/8/10 | 启用日期 | 2001/1/10 | 仪器金额 | 550000 | |
| 接收时的状态及验收记录 | 完好，验收合格 | |||||
| 仪器描述 | 本设备为带换样室立式结构的超高真空磁控溅射镀膜设备 | |||||
| 仪器主要配件 | 射频磁控电源、换样室等 | |||||
| 仪器主要功能 | 本底真空可达1×10-3Pa，可进行直流溅射、射频溅射、反应溅射，大面积沉积镀膜，膜层均匀。 | |||||
| 分析项目说明 | 靶材要求：溅射靶材直径为180mm | |||||
| 联系方式 | 张奎:021-69918562 | |||||
| 设备图片 |  | |||||
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