2009年8月11日，德国夫琅和费集成系统与器件技术研究所(Fraunhofer IISB) 的Andreas Erdmann博士应薄膜中心邀请来到我所，与所内相关科研人员进行了广泛而深入的学术交流。

　  Erdmann博士在溢智厅作了题为“Optical Lithography for Semiconductor Fabrication: Basics, Resolution Enhancement Techniques, and Selected Actual Problems”的学术报告，较为全面地概括了光刻技术的发展历程，指出了光刻技术所面临的挑战，并展望了今后发展窄线宽光刻技术（22nm）的发展方向。在报告中，Erdmann博士着重介绍了光刻技术中曝光、显影和刻蚀过程中的数值模拟方法。来自相关实验室的科研人员及研究生共40余人听取报告，并与外宾进行了学术交流研讨。

　   之后Erdmann博士分别参观了光学薄膜技术研究与发展中心、高功率激光物理联合实验室、强场激光物理国家重点实验室和信息光学开放实验室，并表示希望双方能够进一步加强学术合作与交流。

（薄膜中心供稿）