11月21日-24日，中国光学学会2008年学术年会在泉州华大召开。中国科学院中国工程院周炳琨、庄松林、匡定波、王启明、刘颂豪、潘君骅、陈星旦、范滇元、方家熊、郭光灿、徐至展等11位院士，国际著名光学专家、美国斯坦福大学教授Goodman，中国光学学会副理事长刘旭、谢树森，以及来自全国光学领域的1000多位专家学者出席会议。会议总结交流了中国光学最新科研成果，研讨21世纪光学发展之道。 

　  本次年会除大会报告外还设置了工程光学和光学制造、生物医学光学、光电技术与系统，新型光学材料等18个专题。会议中光学材料专业委员会（上海光机所）协助组织了“新型光学材料及其应用”分会场会议，并取得了圆满的成功。分会场共收到并审阅稿件65篇，最终确定58篇（含邀请报告）；其中55篇作为口头报告，另外3篇只出现在摘要集。与会的专家学者在激光晶体、光存储材料、光学薄膜材料、非晶态与多晶光学材料等领域进行了深入的交流，并做了精彩的学术报告。部分会议照片：（左上）上海光机所 侯立松研究员；（右上）复旦大学 陈良尧教授；（左下）华中科技大学 杨晓非教授； （右下）中科院理化所 胡章贵研究员。

　  光学学会材料专业委员会也在年会期间进行了工作会议，会议由光学材料专业委员会秘书长贺洪波研究员主持（上海光机所），光学材料专委会的12名委员（照片第一排左起刘启明、唐晓东、徐学珍、孙秀冬、章岳光、陈有铭、贺洪波、第二排左起王占山、陈惠广、侯立松、杨晓非、高劲松）参加了会议，会上对专委会08年工作进行了总结，也初步讨论制定了专委会09年工作计划。