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![]("dimgs/NKD7000.jpg")
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中心与英国AQUILA公司和北京正通远恒科技有限公司合作建立了薄膜分析联合实验室，并从AQUILA公司引进了NKD7000薄膜分析系统，该套系统是专为表征和分析薄膜涂层和基片而设计的光谱仪，其功能主要用于测量薄膜的折射率、消光系数和厚度，适合于介电、聚合物、半导体和金属等多种薄膜材料。
NKD7000技术指标：
| 波长范围 |
350nm-1700nm（宽光谱型） |
| 光谱分辨率 |
1或2nm（可选） |
| 样品尺寸 |
10×10mm（最小）-200×250mm（最大）标准系统 |
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直径100mm X-Y方向扫描台 |
| 基体 |
透明，半透明或半吸收。最大厚度可达7mm。 |
| 薄膜厚度范围 |
10nm-20μm，依角度、偏振光和波长而定 |
| 精度 |
半吸收膜 |
典型 |
最大 |
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膜厚 |
<1% |
<3% |
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折射指数 |
<0.01% |
<0.1% |
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消光系数 |
<1% |
<3% |
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金属膜 |
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膜厚 |
<1% |
<3% |
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折射指数 |
<1% |
<3% |
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消光系数 |
<1% |
<3% |
| 重复性 |
透射率 |
<0.01% |
<0.1% |
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折射率 |
<0.01% |
<1.0% |
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折射指数 |
<0.01% |
<0.1% | |
