本中心与上海上诠光纤通信设备有限公司合作从Oxford Applied Research购买的RF50射频离子源已经到货。

RF50射频离子源（RF Ion Source）具有无阴极灯丝，在等离子区内没有任何热电极，它既适用于用反应气体，如氧、氯、氢等，也适用于用惰性气体，如氩。RF50具有以下特征：

    该射频离子源对我们在对光学薄膜性能的研究、改进方面具有极其重要的作用：
    
   对薄膜无污染；
   对薄膜基片进行预清洗；
   使沉积的薄膜更致密；
   能提高和控制沉积材料的折射率；
   能使反应溅射时的反应更充分。
   对该设备的具体应用的研发工作正在进行中。