薄膜光学实验室
光机所主页
首页
实验室简介
导师简介
设备与环境
成果与收获
光学薄膜事业部
联系我们
ENGLISH
首页
>
机构设置
>
薄膜光学实验室
>
设备与环境
原子层沉积系统
更新时间:2023-11-23 【
打印
】 【
关闭
】
设备图片
设备参数
设备联系人
型号：Picosun SUNALE R-200 PEALD
主要指标：
基片尺寸：≤ 8”
薄膜厚度偏差≤ 2%：在8”基片上9个不同点（以圆中心点为原点的XY轴平面的上原点，X/Y轴正、负轴方向的1/2基片半径和4/5基片半径）进行测试
功能：
薄膜制备
李静平
021-69918395
