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 设备参数

 设备联系人

• 制造商：沈阳世昂真空技术有限公司
• 主要参数：
  腔室内径：1320 mm
  沉积方式：磁控溅射沉积
  最大元件尺寸：Ф150 mm × 40 mm
• 功能：
  制备金属膜、极紫外/X射线多层膜

• 制造商：北京泰科诺科技有限公司
• 主要参数：
  腔室内径：5000 mm × 200 mm × 500 mm（长宽高）
  沉积方式：磁控溅射沉积
  最大元件尺寸： 1400 mm × 120 mm × 300 mm
• 功能：
  制备金属膜