上海光机所知识创新工程试点工作简报

（第一五三期）

2005年1月21日

上海光机所两项光科技项目“超高时空分辨非线性光学成像技术的研究及其应
用”和“光刻机系统中193nm薄膜以及13.5nm薄膜的研制”通过验收

　　2005年1月18日，上海市科委在科技项目管理四中心主持召开验收会，对我所承担的二项光科技项目：“超高时空分辨非线性光学成像技术的研究及其应用”和“光刻机系统中193nm薄膜以及13.5nm薄膜的研制”进行验收。项目负责人分别在会上作了课题验收总结报告并回答了专家们提问，验收专家们认真听取了汇报，审查了有关的技术报告、检测报告等验收材料，经充分讨论后形成如下意见：
　　“超高时空分辨非线性光学成像技术的研究及其应用”项目协作建立了全内反射式的荧光成像系统、改进了探测方法并应用于活细胞单分子行为的动态过程成像显示；自设计了一个立式光学成像系统，该系统的功能主要包含双光子成像和相干反斯托克斯拉曼散射(CARS)光谱成像，已应用于小鼠正常细胞和癌细胞中脂肪颗粒的成像；自行建成一套时间分辨的多光子荧光成像系统，时间分辨率为2ps。在该系统上，发现了偶氮染料掺杂薄膜的时间分辨光谱线上的一个新的荧光光谱峰；在10^-13M/L浓度的银溶胶中得到了单个R6G分子的表面增强喇曼光谱，并观察到了单分子的呼吸效应、色散和光谱偏振现象。发表了SCI收录论文12篇，国际A级杂志论文6篇，EI收录论文16篇，国际会议特邀报告5次；参加著书1册；申请专利9项，其中已授权发明专利3项。验收委员会认为该项目出色地完成了计划任务书所规定的研究成果和考核指标。
　　“光刻机系统中193nm薄膜以及13.5nm薄膜的研制”项目制备获得193nm波长的增透膜的反射率为0.157%；制备获得193nm波长的反射膜，0°入射时的反射率为98.8%，45°入射时的反射率为97.0%；制备获得13.5nm波长的反射膜，在5°入射时的反射率约为52%；申请发明专利一项；在国内外核心期刊和重要学术会议上发表学术论文共十篇。验收委员会认为该项目完成了计划任务书所规定的研究成果和考核指标。
　　验收组专家一致通过这两项光科技项目的验收。(科研管理处供稿)