上海光机所知识创新工程试点工作简报

（第六十三期）

2002年5月16日

上海光机所知识创新工程试点工作又传喜讯
高功率激光薄膜研究获重大进展

   上海光机所知识创新工程重大项目“高功率激光发展相关的关键支撑技术”取得重大进展：光学薄膜技术研究与发展中心采用离子束溅射技术，成功 制备超低损耗超高反射率薄膜和偏振分光薄膜。
   高功率激光系统是战略能源研究的一个重要装置，激光薄膜的性能一直是限制向更高能量或更高功率发展的瓶颈之一。为攻克这一难关，上海光机所作为知识创新点归入重大创新项目“高功率激光发展相关的关键支撑技术”之中，组织专门队伍在二期创新中继续深入研究，终于获得了重大进展。
   他们利用美国Perkin-Elmer公司产的Lambda 900UV/VIS/NIR分光光度计以及绝对反射率测量附件，对所制备的激光反射薄膜进行了测试：针对激光器的工作波长，其反射率稳定达到99.99％以上，透过率小于1×10-6（0度入射和45度入射两种情况下的测量结果均是如此）。获得的反射效果可以彻底消除由于薄膜吸收或透过所引起的腔镜在高能量下的受热变形，同时在激光陀螺中也有广泛的应用前景。国内原有报道的最高的反射率，在正面入射时为99.93％，45度入射时只达到99.8％左右。
   对偏振分光膜的测试结果为：其平行分量的透过率接近99％；垂直分量透过率仅有0.064％，消光比高达1500以上，比原有的最好结果200提高了7.5倍，对提高激光系统的光束质量和稳定性有极大的推进作用。
   上述测试结果，均属国内目前的最好结果，尤其是高反射薄膜的超高反射率的实现，打破了国内在此方面长期徘徊停滞不进的僵局，使超低损耗薄膜的研制进入了一个新的阶段。